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中国画双年展将展示长卷视界 打造创新型平台
本报杭州讯 7月10日，第二届杭州·中国画双年展第三次会议在杭州召开。此次会议公布，第二届杭州·中国画双年展将于12月28日在浙江美术馆举办，并最终确定了来自全国12个省、市、自治区的30名参展艺术家名单。
第二届杭州·中国画双年展策展人为：刘健、王赞、孙永、马锋辉。第二届杭州·中国画双年展主题为“长卷视界·延续经典”，并由中国美术家协会、浙江省文联、浙江省文化厅、中国美院主办，浙江省美协、浙江画院、浙江美术馆承办。展览将分长卷之观、长卷之法、长卷之境3个部分展出，每位艺术家将有约30米的展线展示各自创作的长卷。会议由浙江省美协秘书长骆献跃主持。
浙江省美术家协会副主席、浙江画院院长孙永现场作了具体筹备情况的工作报告。孙永特别指出，打造当代中国画创作型的创新平台、研究型的话语平台、精英型的推出平台、高端型的传播平台，是杭州中国画双年展持续不变的任务与目标。通过举办中国画双年展，提供一个关于中国画传承与发展的创作型创新平台，创作一批具有震撼力的艺术作品；提出中国画生存与拓新的研究型话语，引领中国画的发展方向和当代文化思考；推出中国画人才队伍的精英型平台；建立面向未来的中国画在新的时代背景下与世界交流的高端型传播平台。
中国美术学院副院长王赞教授介绍了首届杭州中国画双年展的情况，以及第二届杭州·中国画双年展参展艺术家推荐工作情况，并对本届主题进行了具体阐述。王赞用4句话概括了本届中国画双年展的宗旨，即回眸世纪发展之路，标新国画学术话语，重建当代文化联系，再造东方艺术高峰。在王赞看来，新的时代背景下，中国画的生存状态也面临新的挑战，深刻反思中国画的百年发展之路，从中国画的继承、标新和本土建设出发，重新考量艺术的生存和发展的当代生态，着力活化和深化中国画的发展，积极研究和推出中国绘画深层和突出的话语，是策展人团队对学术宗旨的希望。
浙江省美术馆馆长马锋辉宣布了参加本届中国画双年展的最终30人名单。
本次会议结束后，至开展前的几个月时间内，组委会将针对参展艺术家的创作情况，同步展开跟踪交流，力图把每位艺术家创作过程中的动态进行记录，并作为文献资料收纳入第二届杭州·中国画双年展的画册。
参展艺术家名单
刘国松 卢坤峰 崔振宽 吴山明 彭先诚
萧海春 刘大为 龙 瑞 常 进 王明明
崔晓东 李学明 马小娟 徐乐乐 陈孟昕
杨金星 李劲堃 喻 慧 刘庆和 彭小冲
茹 峰 张 捷 王颖生 次仁多杰 姚大伍
贾广健 赵跃鹏 方 向 花 俊 德 珍
